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microworksX射線干涉儀Talint EDU
Talint EDU是X射線Talbot Lau干涉儀的一種巧妙簡化形式，包括所有必要的硬件，以正確設置和微調干涉儀，并應用相位步進程序，以獲得三種成像模式：吸收、相位對比度和暗場對比度。硬件的設計使...
- 品牌：microworks
- 型號：Talint EDU
- 下載： microworks X射線干涉儀Talint EDU.pdf
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產品介紹
Talint EDU是X射線Talbot Lau干涉儀的一種巧妙簡化形式，包括所有必要的硬件，以正確設置和微調干涉儀，并應用相位步進程序，以獲得三種成像模式：吸收、相位對比度和暗場對比度。
硬件的設計使得，在按照我們的說明組裝（預裝）套件后，莫爾條紋將很容易在您的探測器上看到。莫爾條紋圖案的進一步微調可以通過使用G1和G2支架中的微米螺釘使光柵繞光軸進行角旋轉，以直接的方式進行。
性能特點
- 由基板定義，基板是M6的試驗板，間距為25mm
- 光柵是使用X射線LIGA技術制造的，該技術確保了高精度和高的高寬比（縱橫比）
- 通過定位銷固定；對稱設置
- 兩個光柵都可以通過調節(jié)測微螺釘繞光軸旋轉
- 包含控制器
技術參數
產地：德國
長度：60厘米
寬度：15厘米
高度：20厘米
光柵開放區(qū)域
G0：15毫米
G1：70毫米
G2：70毫米
干涉儀的微調：僅調整G1和G2繞光軸的旋轉角度
樣品放置：簡單的旋轉臺，可在光軸內外擺動樣品
相位步進：閉環(huán)壓電級。30nm分辨率
邊緣能見度：通常>15%
G0和G2的占空比：0.55
G0和G2的基板：400µm石墨
G1占空比：0.5
G1基板：200µm硅
津公網安備12010102000946號
