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        • 400-961-9005

          ENTEGRIS凈化器PS2-GC50-R

          去除氮氣和甲烷雜質(zhì),實現(xiàn)氬氣、氦氣、氙氣、氮氣和氫氣的使用點凈化。GateKeeper 加熱捕集器 (HGU) 是需要去除 CH4或 N2雜質(zhì)的使用點凈化的理想解決方案。可凈化的氣體包括 Ar、He、...

          產(chǎn)品介紹

          去除氮氣和甲烷雜質(zhì),實現(xiàn)氬氣、氦氣、氙氣、氮氣和氫氣的使用點凈化。GateKeeper 加熱捕集器 (HGU) 是需要去除 CH4 或 N2 雜質(zhì)的使用點凈化的理想解決方案。可凈化的氣體包括 Ar、He、Xe、N2 和 H2

          加熱獲取器技術(shù)可與雜質(zhì)形成不可逆的結(jié)合,并將雜質(zhì)去除到亞ppb級。與僅依靠表面吸附的環(huán)境凈化技術(shù)不同,加熱獲取器技術(shù)利用了整個材料體積,因此雜質(zhì)容量更大,凈化器壽命更長

          性能特點

          使用點 (POU) 氣體凈化可確保工藝性能的一致性和可重復(fù)性,將關(guān)鍵工藝區(qū)域與室內(nèi)氣體分配系統(tǒng)隔離,并防止氣體純度下降和交叉污染

          能完整地去除稀有氣體、氮氣 (N2) 和氫氣 (H2) 中的雜質(zhì)

          可靠性高、成本低、性能好

          加熱的獲取器材料可與任何氧化物、碳化物和氮化物雜質(zhì)形成不可逆的化學(xué)鍵

          優(yōu)化設(shè)計可提供亞ppb 級性能,優(yōu)于氣瓶或液體來源的氣體

          占地面積小,流速高達 150 slpm(9 Nm3/hr)。

          選型指南

          PS2-GC50: 典型流速 0 - 0.2 slpm

          PS3-MT3: 典型流速 0.2 - 3 slpm

          PS4-MT3 和 PS4-MT15:典型流速 3 - 30 slpm

          PS4-MT50: 典型流速 30 - 100/150 slpm

          技術(shù)參數(shù)

          產(chǎn)地:美國

          Max流速:0.2 slpm(氮氣、氦氣、氬氣)

          出口氣體溫度:< 50 °C (122 °F)

          平均功耗:< 50 W

          金屬顆粒過濾器:20 μm

          尺寸(高×寬):23 × 10 cm(9 × 4 英寸)

          重量:1.8 kg(4 磅)

          標準配置:1/4 英寸 VCR 接頭

          可選功能:110 - 120 VAC 或 220 - 240 VAC

          去除雜質(zhì):H2O、O2、CO、CO2、CH4、其他碳氫化合物、H2、N2

          氮氣出口純度:<10 ppb;<50 ppb(CH4

          稀有氣體出口純度:<10 ppb

          產(chǎn)品應(yīng)用

          適用于氣相色譜儀 (GC) 和其他低流量分析應(yīng)用的小型經(jīng)濟型凈化器

          氣相沉積工藝:MOCVD、PVD、CVD、外延、光刻技術(shù)、計量學(xué)、研發(fā)實驗室實驗、發(fā)光二極管、拉晶、植入、蝕刻、擴散和氧化過程、退火、光纖、分析、太陽能和光伏


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