VAT真空控制閘閥64.8

64.8 UHV控制閘閥系列專為半導體生產(chǎn)中的濺射或極紫外光刻等ultra-high真空工藝設計，可實現(xiàn)可靠、準確的控制與隔離。該系列滿足耐用性、模塊化、密封性及可維護性等標準要求，尤其注重高運行時間和低擁有成本。

64.8系列配備VATLOCK技術，可在閥板無摩擦狀態(tài)下提供可靠密封。閥板作為節(jié)流元件調節(jié)閥門開度的導通率。內置壓力控制器計算達到設定點壓力所需的閥板位置，由步進電機執(zhí)行驅動動作，編碼器實時監(jiān)測閥板位置，從而實現(xiàn)快速精細的工藝壓力控制。獨特的VATLOCK鎖定機構在關閉狀態(tài)下確保密封隔離，并在斷電時觸發(fā)故障安全關閉功能。

通過金屬閥帽密封、波紋管密封饋通件及硫化閥板密封（可選配O型圈），實現(xiàn)ultra-high真空性能。

64.8型閥門已在數(shù)千個嚴苛工藝條件下成功應用，其卓絕可靠性經(jīng)受住考驗。憑借堅固耐用的無潤滑設計，該閥門完全滿足高循環(huán)真空控制閘閥的所有要求。

64.8 UHV控制閘閥提供多種設計選項，包括密封材料、法蘭連接、粗抽（旁通）、排氣或儀表接口，以及特殊控制算法（自適應、固定PI下游/軟泵），可簡化其在各類真空應用中的集成。控制器也可獨立于閥門安裝。

該系列提供DN 200至250mm（8“至10”）規(guī)格，DN 160（6“）和DN 320（12”）規(guī)格可按需定制。

可靠、久經(jīng)考驗的ultra-high真空設計

免潤滑

VATLOCK技術

堅固不銹鋼主體

可靠準確的控制與隔離

延長免維護周期

低擁有成本

半導體制造

濺射工藝：在薄膜沉積過程中，準確控制真空腔體壓力，確保薄膜均勻性。

EUV光刻：維持ultra-high真空環(huán)境，防止光刻膠污染，提升良率。

科研與高能物理

同步加速器：隔離真空束線，減少氣體分子對粒子束的干擾。

空間模擬：模擬太空真空環(huán)境，測試航天器材料耐久性。

顯示面板制造

OLED蒸發(fā)：控制有機材料蒸發(fā)速率，優(yōu)化顯示層厚度。